檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "楊永欽".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="氧化鈰"
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本研究使用射頻磁控濺鍍設備(RF Magnetron Sputtering),並分為純氬氣與通入6.2 sccm與12.5 sccm氧氣氣氛,搭配CeO2靶材以功率100 W沉積氧化鈰薄膜於矽晶片、…